najbardziej rozpowszechnionym przemysłowym zastosowaniem laserów excimerowych KrF było w fotolitografii głębokiego ultrafioletu do produkcji urządzeń mikroelektronicznych (np. półprzewodnikowych układów scalonych lub „chipów”). Od początku lat 60. do połowy lat 80. lampy Hg-Xe były używane do litografii w falach 436, 405 i 365 nm. Jednak ze względu na zapotrzebowanie przemysłu półprzewodników na lepszą rozdzielczość (dla gęstszych i szybszych układów scalonych) oraz wyższą wydajność produkcji (dla niższych kosztów), narzędzia litograficzne oparte na lampach nie były już w stanie sprostać wymaganiom branży. Wyzwanie to zostało przezwyciężone, gdy w pionierskim opracowaniu w 1982 r. K. Jain zademonstrował w IBM laserową litografię ekscymerową głębokiego promieniowania UV. Dzięki fenomenalnym postępom w sprzęcie i technologii w ciągu ostatnich dwóch dekad, nowoczesne półprzewodnikowe urządzenia elektroniczne wytwarzane przy użyciu litografii laserowej excimerowej teraz wynoszą ponad 400 miliardów dolarów w rocznej produkcji. W rezultacie przemysł półprzewodników uważa, że litografia laserowa excimerowa (zarówno z laserami KrF, jak i ArF) była kluczowym czynnikiem w predykcyjnej mocy prawa Moore ’ a. Z jeszcze szerszej perspektywy naukowej i technologicznej: od czasu wynalezienia lasera w 1960 roku rozwój litografii laserowej excimerowej został wyróżniony jako jeden z głównych kamieni milowych w 50-letniej historii lasera.
Laser KrF był przydatny w środowisku badawczym energii syntezy jądrowej w eksperymentach inercyjnych. Ten laser ma wysoką jednorodność wiązki, krótką długość fali i funkcję regulowanego rozmiaru plamki.
w 1985 roku Los Alamos National Laboratory zakończyło testowe wypalanie eksperymentalnego lasera KrF o poziomie energii 1,0 × 104 dżuli. Oddział plazmy laserowej Naval Research Laboratory ukończył Laser KrF o nazwie laser Nike, który może wytwarzać około 4,5 × 103 dżuli energii UV w 4 nanosekundowym impulsie. Kent A. Gerber był siłą napędową tego projektu. Ten ostatni laser jest używany w eksperymentach laserowych.
laser ten był również używany do wytwarzania miękkiego promieniowania rentgenowskiego z plazmy, poprzez napromieniowanie za pomocą krótkich impulsów tego światła laserowego. Inne ważne zastosowania obejmują manipulowanie różnymi materiałami, takimi jak plastik, szkło, kryształ, materiały kompozytowe i żywa tkanka. Światło z tego lasera UV jest silnie absorbowane przez lipidy, kwasy nukleinowe i białka, dzięki czemu jest przydatne do zastosowań w terapii medycznej i chirurgii.
