den mest utbredda industriella tillämpningen av KrF excimerlasrar har varit i djup ultraviolett fotolitografi för tillverkning av mikroelektroniska enheter (dvs. halvledarintegrerade kretsar eller ”chips”). Från början av 1960-talet till mitten av 1980-talet hade Hg-Xe-lampor använts för litografi vid 436, 405 och 365 nm våglängder. Men med halvledarindustrins behov av både finare upplösning (för tätare och snabbare chips) och högre produktionskapacitet (för lägre kostnader) kunde de lampbaserade litografiverktygen inte längre uppfylla branschens krav. Denna utmaning övervinnades när i en banbrytande utveckling 1982 demonstrerades djup-UV excimerlaserlitografi på IBM av K. Jain. Med fenomenala framsteg som gjorts i utrustning och teknik under de senaste två decennierna, moderna halvledarelektroniska enheter tillverkas med hjälp av excimerlaser litografi nu totalt mer än $400 miljarder i årlig produktion. Som ett resultat är det halvledarindustrins uppfattning att excimerlaserlitografi (med både KrF-och ArF-lasrar) har varit en avgörande faktor i den prediktiva kraften i Moores lag. Ur ett ännu bredare vetenskapligt och tekniskt perspektiv: sedan laserns uppfinning 1960 har utvecklingen av excimerlaserlitografi lyfts fram som en av de viktigaste milstolparna i laserns 50-åriga historia.
KrF-lasern har varit till nytta i kärnfusionsenergiforskningssamhället i tröghetsförslutningsexperiment. Denna laser har helljusuniformitet, kort våglängd och funktionen av en justerbar punktstorlek.
1985 slutförde Los Alamos National Laboratory en testavfyring av en experimentell KrF-laser med en energinivå på 1,0 104 joules. Laserplasmagren i Naval Research Laboratory slutförde en KrF-laser som heter Nike-lasern som kan producera cirka 4,5 103 joule av UV – energiproduktion i en 4 nanosekundpuls. Kent A. Gerber var drivkraften bakom detta projekt. Den senare lasern används i laserinneslutningsexperiment.
denna laser har också använts för att producera mjuk Röntgenemission från en plasma, genom bestrålning av korta pulser av detta laserljus. Andra viktiga tillämpningar inkluderar manipulering av olika material såsom plast, glas, kristall, kompositmaterial och levande vävnad. Ljuset från denna UV-laser absorberas starkt av lipider, nukleinsyror och proteiner, vilket gör det användbart för applikationer inom medicinsk terapi och kirurgi.
